隨著科技的不斷進(jìn)步，直讀光譜儀在零部件及體積上在不斷的變化，像目前，直讀光譜儀內(nèi)部在激發(fā)光源上，科技工作者在不斷嘗試不同的光源，同時(shí)，儀器本身也在不斷的變小。那這些變化對(duì)檢測(cè)效果方面，都有著什么樣的差異呢？我們共同來揭曉。
采用新型數(shù)字光源與傳統(tǒng)光源上產(chǎn)生的變化
目前，光譜儀在光源上，有熱激發(fā)光源（如火焰）、電激發(fā)光源（如電弧和火花）、等離子體激發(fā)光源（如直流等離子體噴焰(DCP)、電感耦合等離子體炬(ICP)和微波電感等離子體炬(MIP)）、激光光源等。
直讀光譜儀采用的多為火花光源，也有少量采用電弧光源分析礦物或超低含量合金。傳統(tǒng)的火花光源采用電容電感充放電原理，電容電感參數(shù)確定后，激發(fā)波形固定，所有元素均采用相同的激發(fā)波形；但是不同樣品和不同元素需要不同激發(fā)波形，例如激發(fā)電位高的元素需要火花型放電波形提供高的激發(fā)能量，痕量元素需要電弧型放電波形改善蒸發(fā)效果，因此傳統(tǒng)火花光源的激發(fā)效果較差。
新型的數(shù)字光源采用多高頻電源脈沖合成技術(shù)，可實(shí)現(xiàn)任意激發(fā)波形，針對(duì)不同元素采用最合適的激發(fā)波形，獲得最佳激發(fā)效果，以滿足不同基體的分析需求，是傳統(tǒng)激發(fā)光源無法比擬的。
創(chuàng)想儀器 CX-9800全譜直讀光譜儀
直讀光譜儀的小型化，檢測(cè)效果變差了嗎？
直讀光譜儀的分辨率受到入縫寬度、出縫寬度、光柵刻線數(shù)、光譜儀的焦距、光線入射角、光譜級(jí)次等因素的綜合影響，其中全譜和多道直讀光譜儀的主要區(qū)別在于出入縫寬度、光柵刻線數(shù)和焦距的不同。全譜型直讀光譜儀雖然焦距比較小，但其采用了更窄的入縫和更高刻線數(shù)的光柵，因此其光學(xué)分辨率與大型多道光譜儀相當(dāng)；而且大型多道直讀光譜儀采用PMT作為檢測(cè)器，必須配合出縫來選擇光譜，受制于光譜強(qiáng)度、出縫的加工和光學(xué)調(diào)試難度等因素的影響，出縫寬度通常在50μm左右，影響了多道光譜儀的分辨能力。而全譜型直讀光譜儀采用CCD/CMOS作為檢測(cè)器，其像素寬度僅為10μm左右，大大提高了光譜的分辨能力。
以上就是這次為大家?guī)淼闹弊x光譜儀的相關(guān)小知識(shí)。